Deposition of CAP/antioxidants systems on silica particles using the supercritical antisolvent process

  1. García-Casas, I.
  2. Montes, A.
  3. Valor, D.
  4. Pereyra, C.
  5. de la Ossa, E.J.M.
Revista:
Applied Sciences (Switzerland)

ISSN: 2076-3417

Año de publicación: 2020

Volumen: 10

Número: 13

Tipo: Artículo

DOI: 10.3390/APP10134576 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor

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