N + BF2 and N + C + BF2 high-dose co-implantation in silicon

  1. Barbadillo, L.
  2. Cervera, M.
  3. Hernández, M.J.
  4. Rodríguez, P.
  5. Piqueras, J.
  6. Molina, S.I.
  7. Ponce, A.
  8. Morales, F.M.
Aldizkaria:
Applied Physics A: Materials Science and Processing

ISSN: 0947-8396

Argitalpen urtea: 2003

Alea: 76

Zenbakia: 5

Orrialdeak: 791-800

Mota: Artikulua

DOI: 10.1007/S00339-002-1503-8 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus