Optical absorption in amorphous hydrogenated silicon nitride thin films deposited by the electron cyclotron resonance plasma method and subjected to rapid thermal annealing

  1. Martínez, F.L.
  2. Mártil, I.
  3. González-Díaz, G.
  4. Bernal-Oliva, A.M.
  5. González-Leal, J.M.
  6. Márquez, E.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Any de publicació: 1999

Volum: 343-344

Número: 1-2

Pàgines: 433-436

Tipus: Article

DOI: 10.1016/S0040-6090(98)01669-1 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus