X-ray topography study of monocrystalline silicon wafers diffused with phosphorus by different methods

  1. Vallejo, B.
  2. González-Mañas, M.
  3. Caballero, M.A.
Revista:
Applied Physics A: Materials Science and Processing

ISSN: 0947-8396,  1432-0630

Año de publicación: 2013

Volumen: 113

Número: 2

Páginas: 531-536

Tipo: Artículo

DOI: 10.1007/S00339-013-7564-Z GOOGLE SCHOLAR
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