N + BF2 and N + C + BF2 high-dose co-implantation in silicon

  1. Barbadillo, L.
  2. Cervera, M.
  3. Hernández, M.J.
  4. Rodríguez, P.
  5. Piqueras, J.
  6. Molina, S.I.
  7. Ponce, A.
  8. Morales, F.M.
Revista:
Applied Physics A: Materials Science and Processing

ISSN: 0947-8396

Año de publicación: 2003

Volumen: 76

Número: 5

Páginas: 791-800

Tipo: Artículo

DOI: 10.1007/S00339-002-1503-8 GOOGLE SCHOLAR
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