Low-Temperature Growth of Axial Si/Ge Nanowire Heterostructures Enabled by Trisilane

  1. Hui, H.Y.
  2. De La Mata, M.
  3. Arbiol, J.
  4. Filler, M.A.
Revista:
Chemistry of Materials

ISSN: 1520-5002,  0897-4756

Ano de publicación: 2017

Volume: 29

Número: 8

Páxinas: 3397-3402

Tipo: Artigo

DOI: 10.1021/ACS.CHEMMATER.6B03952 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus