Effects of growth parameters on oxygen incorporation into ingaalp grown by metalorganic chemical vapor deposition

  1. Nishikawa, Y.
  2. Suzuki, M.
  3. Okajima, M.
Zeitschrift:
Japanese Journal of Applied Physics

ISSN: 1347-4065 0021-4922

Datum der Publikation: 1993

Ausgabe: 32

Nummer: 1 S

Seiten: 498-501

Art: Artikel

DOI: 10.1143/JJAP.32.498 GOOGLE SCHOLAR