O3-Annealing Effect on the Etching Resilience of a TiO2/Al2O3 filter Prepared by Atomic Layer Deposition

  1. Vazquez, J.L.
  2. López, J.
  3. Bohórquez, C.
  4. Lizarraga, E.
  5. Blanco, E.
  6. Can-Uc, B.
  7. Romo, O.
  8. Nedev, N.
  9. Farías, M.H.
  10. Tiznado, H.
Revista:
ACS Applied Materials and Interfaces

ISSN: 1944-8252,  1944-8244

Any de publicació: 2023

Volum: 15

Número: 34

Pàgines: 40942-40953

Tipus: Article

DOI: 10.1021/ACSAMI.3C07586 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus