O3-Annealing Effect on the Etching Resilience of a TiO2/Al2O3 filter Prepared by Atomic Layer Deposition

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Zeitschrift:
ACS Applied Materials and Interfaces

ISSN: 1944-8252,  1944-8244

Datum der Publikation: 2023

Ausgabe: 15

Nummer: 34

Seiten: 40942-40953

Art: Artikel

DOI: 10.1021/ACSAMI.3C07586 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus