Deposition of CAP/antioxidants systems on silica particles using the supercritical antisolvent process

  1. García-Casas, I.
  2. Montes, A.
  3. Valor, D.
  4. Pereyra, C.
  5. de la Ossa, E.J.M.
Zeitschrift:
Applied Sciences (Switzerland)

ISSN: 2076-3417

Datum der Publikation: 2020

Ausgabe: 10

Nummer: 13

Art: Artikel

DOI: 10.3390/APP10134576 GOOGLE SCHOLAR lock_openOpen Access editor

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