Stoichiometric Control of SiOx Thin Films Grown by Reactive Magnetron Sputtering at Oblique Angles

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Zeitschrift:
Plasma Processes and Polymers

ISSN: 1612-8869 1612-8850

Datum der Publikation: 2016

Ausgabe: 13

Nummer: 12

Seiten: 1242-1248

Art: Artikel

DOI: 10.1002/PPAP.201600077 GOOGLE SCHOLAR