Effects of growth parameters on oxygen incorporation into ingaalp grown by metalorganic chemical vapor deposition

  1. Nishikawa, Y.
  2. Suzuki, M.
  3. Okajima, M.
Revista:
Japanese Journal of Applied Physics

ISSN: 1347-4065,  0021-4922

Año de publicación: 1993

Volumen: 32

Número: 1 S

Páginas: 498-501

Tipo: Artículo

DOI: 10.1143/JJAP.32.498 GOOGLE SCHOLAR
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