O3-Annealing Effect on the Etching Resilience of a TiO2/Al2O3 filter Prepared by Atomic Layer Deposition

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Revista:
ACS Applied Materials and Interfaces

ISSN: 1944-8252,  1944-8244

Año de publicación: 2023

Volumen: 15

Número: 34

Páginas: 40942-40953

Tipo: Artículo

DOI: 10.1021/ACSAMI.3C07586 GOOGLE SCHOLAR
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