Atomic scale strain relaxation in axial semiconductor III-V nanowire heterostructures

  1. De La Mata, M.
  2. Magén, C.
  3. Caroff, P.
  4. Arbiol, J.
Revista:
Nano Letters

ISSN: 1530-6992,  1530-6984

Año de publicación: 2014

Volumen: 14

Número: 11

Páginas: 6614-6620

Tipo: Artículo

DOI: 10.1021/NL503273J GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
Fuente de los datos: Scopus