Atomic scale strain relaxation in axial semiconductor III-V nanowire heterostructures

  1. De La Mata, M.
  2. Magén, C.
  3. Caroff, P.
  4. Arbiol, J.
Revue:
Nano Letters

ISSN: 1530-6992,  1530-6984

Année de publication: 2014

Volumen: 14

Número: 11

Pages: 6614-6620

Type: Article

DOI: 10.1021/NL503273J GOOGLE SCHOLAR lock_openAccès ouvert editor
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