Atomic scale strain relaxation in axial semiconductor III-V nanowire heterostructures

  1. De La Mata, M.
  2. Magén, C.
  3. Caroff, P.
  4. Arbiol, J.
Aldizkaria:
Nano Letters

ISSN: 1530-6992,  1530-6984

Argitalpen urtea: 2014

Alea: 14

Zenbakia: 11

Orrialdeak: 6614-6620

Mota: Artikulua

DOI: 10.1021/NL503273J GOOGLE SCHOLAR lock_openSarbide irekia editor
Datuen iturria: Scopus