Stoichiometric Control of SiOx Thin Films Grown by Reactive Magnetron Sputtering at Oblique Angles

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Revista:
Plasma Processes and Polymers

ISSN: 1612-8869,  1612-8850

Año de publicación: 2016

Volumen: 13

Número: 12

Páginas: 1242-1248

Tipo: Artículo

DOI: 10.1002/PPAP.201600077 GOOGLE SCHOLAR
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