High-quality carbon nanotube growth at low temperature by pulse-excited remote plasma chemical vapor deposition

  1. Yamazaki, Y.
  2. Sakuma, N.
  3. Katagiri, M.
  4. Suzuki, M.
  5. Sakai, T.
  6. Sato, S.
  7. Nihei, M.
  8. Awano, Y.
Revista:
Applied Physics Express

ISSN: 1882-0778,  1882-0786

Año de publicación: 2008

Volumen: 1

Número: 3

Páginas: 0340041-0340043

Tipo: Artículo

DOI: 10.1143/APEX.1.034004 GOOGLE SCHOLAR
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