High temperature AlN intermediate layer in GaN grown by molecular beam epitaxy

  1. Stemmer, J.
  2. Fedler, F.
  3. Klausing, H.
  4. Mistele, D.
  5. Rotter, T.
  6. Semchinova, O.
  7. Aderhold, J.
  8. Sanchez, A.M.
  9. Pacheco, F.J.
  10. Molina, S.I.
  11. Fehrer, M.
  12. Hommel, D.
  13. Graul, J.
Revista:
Journal of Crystal Growth

ISSN: 0022-0248

Any de publicació: 2000

Volum: 216

Número: 1

Pàgines: 15-20

Tipus: Article

DOI: 10.1016/S0022-0248(00)00468-1 GOOGLE SCHOLAR