High temperature AlN intermediate layer in GaN grown by molecular beam epitaxy

  1. Stemmer, J.
  2. Fedler, F.
  3. Klausing, H.
  4. Mistele, D.
  5. Rotter, T.
  6. Semchinova, O.
  7. Aderhold, J.
  8. Sanchez, A.M.
  9. Pacheco, F.J.
  10. Molina, S.I.
  11. Fehrer, M.
  12. Hommel, D.
  13. Graul, J.
Revista:
Journal of Crystal Growth

ISSN: 0022-0248

Ano de publicación: 2000

Volume: 216

Número: 1

Páxinas: 15-20

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/S0022-0248(00)00468-1 GOOGLE SCHOLAR