High temperature AlN intermediate layer in GaN grown by molecular beam epitaxy

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Revista:
Journal of Crystal Growth

ISSN: 0022-0248

Año de publicación: 2000

Volumen: 216

Número: 1

Páginas: 15-20

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0022-0248(00)00468-1 GOOGLE SCHOLAR